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zyc_cy

铁虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射法制备高K薄膜，为什么漏流很大？

用磁控溅射法制备高K薄膜，在漏流I-V测试时，发现漏流很大，漏流密度达到10-6A/cm2，无法达到绝缘效果，怎么回事？是不是磁控溅射法不适合做绝缘薄膜？测试了氧化铪、铪钛氧等高k材料，漏流都很大。
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1楼 2019-04-20 09:11:24
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tangtang0427

木虫 (正式写手)

君子和而不同

【答案】应助回帖

与真空室的气压有关系，与镀膜工艺也有关系，建议你做一个DOE，溅射参数与漏流的关系，别的不清楚，磁控溅射和蒸发镀氧化铪都是可以的。
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自强不息，厚德载物！
2楼2019-04-23 10:41:15
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