| 查看: 94 | 回复: 0 | |||
| 当前主题已经存档。 | |||
liuyanping105银虫 (小有名气)
|
[交流]
【求助】寻找一种透明能用紫外光曝光photoresist
|
||
|
小弟最近想给附在硅上的薄膜做个电极，想寻找一种透明能用紫外光曝光photoresist。我们知道PMMA是一种透明的photoresist，但这种photoresist是用EBL曝光的，请问是否有这种即透明又能用紫外光曝光的photoresist.期待高手前辈指导！ [ Last edited by liuyanping105 on 2009-5-16 at 13:22 ] |
回复此楼» 猜你喜欢
垃圾破二本职称评审标准
已经有8人回复
-
三无产品还有机会吗
已经有6人回复
-
投稿返修后收到这样的回复，还有希望吗
已经有7人回复
-
博士申请都是内定的吗？
已经有14人回复
-
谈谈两天一夜的“延安行”
已经有13人回复
-
氨基封端PDMS和HDI反应快速固化
已经有11人回复
-
之前让一硕士生水了7个发明专利，现在这7个获批发明专利的维护费可从哪儿支出哈？
已经有11人回复
-
论文投稿求助
已经有4人回复
-
Applied Surface Science 这个期刊。有哪位虫友投过的能把word模板发给我参考一下嘛
已经有3人回复