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金属钛薄膜在高温下是否会与氮气反应形成TiN薄膜
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采用电子束或者磁控溅射等PVD设备制备的Ti薄膜，厚度在几百个纳米范围内（>100nm），在氮气氛围内，温度600-900摄氏度范围，持续时间1min-10min。 问题：①该Ti薄膜的表面是否会形成TiN，形成的TiN厚度一般是多少，（用薄膜总厚度的比例表征或者是厚度表征一下） ②如果会形成TiN薄膜，一般怎么去表征这层TiN薄膜的质量？（导电性？表面形貌？结晶？） ③是否有这方面的文献可以参考？（我也不清楚找哪方面的，我的目的是直接做出TiN，但是设备的硬件条件比较难做出来，只能靠这种方式尝试形成导电性良好且稳定性好的TiTiN薄膜） |
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