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金属钛薄膜在高温下是否会与氮气反应形成TiN薄膜
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采用电子束或者磁控溅射等PVD设备制备的Ti薄膜,厚度在几百个纳米范围内(>100nm),在氮气氛围内,温度600-900摄氏度范围,持续时间1min-10min。 问题:①该Ti薄膜的表面是否会形成TiN,形成的TiN厚度一般是多少,(用薄膜总厚度的比例表征或者是厚度表征一下) ②如果会形成TiN薄膜,一般怎么去表征这层TiN薄膜的质量?(导电性?表面形貌?结晶?) ③是否有这方面的文献可以参考?(我也不清楚找哪方面的,我的目的是直接做出TiN,但是设备的硬件条件比较难做出来,只能靠这种方式尝试形成导电性良好且稳定性好的TiTiN薄膜) |
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