| 查看: 443 | 回复: 1 | |||
[求助]
底物中－OH有手性，THP保护时产生消旋体
|
|
保护OH后产生消旋体，TLC上两个紧挨着的点，这个保护基脱掉以后，我的OH构型会发生变化吗？希望各位大神指导，谢谢(*°?°)=3 发自小木虫Android客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
限项规定
已经有6人回复
-
西南交通大学国家级人才团队2026年博士研究生招生（考核制）—机械、材料、力学方向
已经有3人回复
-
救命帖
已经有6人回复
-
英文综述是否需要润色及查重
已经有5人回复
-
为什么nbs上溴 没有产物点出现呢
已经有9人回复
-
招博士
已经有3人回复
-
最失望的一年
已经有18人回复
xiuxiu6969
铜虫 (著名写手)
- 应助: 4 (幼儿园)
- 金币: 2371.5
- 散金: 250
- 红花: 2
- 帖子: 1124
- 在线: 308小时
- 虫号: 1735828
- 注册: 2012-04-04
- 性别: GG
- 专业: 有机合成
2楼2019-03-30 10:38:35