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底物中-OH有手性,THP保护时产生消旋体
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保护OH后产生消旋体,TLC上两个紧挨着的点,这个保护基脱掉以后,我的OH构型会发生变化吗?希望各位大神指导,谢谢(*°?°)=3 发自小木虫Android客户端 |
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xiuxiu6969
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