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学渣gogo新虫 (小有名气)
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[求助]
求助大神镀膜问题，靶功率靶电压靶电流 已有1人参与
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我刚接触材料，学的是反映磁控溅射这一块，对靶电压靶电流靶电压影响因素搞不太懂 为什么金属溅射转化为化合物溅射，靶电压上升？靶电流不是由灯丝的电子发射率决定吗，为啥我看文章说是等离子密度决定，金属溅射转化为化合物溅射时靶电流减小？？ 靶功率由什么决定？还有当靶功率一定时，金属溅射转化为化合物溅射，靶电压为啥又降低了，和靶电流有关系吗？？？ 问题比较多，谢谢大家！ |
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3楼2019-03-18 11:17:15
【答案】应助回帖
感谢参与，应助指数 +1
为什么金属溅射转化为化合物溅射，靶电压上升？ 属溅射转化为化合物溅射，靶面的溅射区形成化合物，进入反应溅射模式即化合物溅射模式，轰击靶面的离子及轰击阳极的电子都会得不到中和而聚集起来，建立越来越强的局部电场，极端情况为靶中毒以及阳极消失，靶电压升高才能维持放电正常靶电流不是由灯丝的电子发射率决定吗，为啥我看文章说是等离子密度决定，金属溅射转化为化合物溅射时靶电流减小？？ 同上一个问题，如果靶电压不升高，靶电流就会减小，你可以把它简化为电压、电流、电阻的关系，这样比较好理解。等离子密度高=空间放电电阻小。靶功率由什么决定？ 功率=电压+电流 金属溅射转化为化合物溅射，靶电压为啥又降低了，和靶电流有关系吗？？？ 不知道这句什么意思，可能放电面积缩小的缘故另外，可否把你看的文章让我看看，共同学习~ |
2楼2019-03-18 08:54:18
学渣gogo
新虫 (小有名气)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 267.6
- 帖子: 96
- 在线: 6.7小时
- 虫号: 14514038
- 注册: 2019-03-07
- 性别: MM
- 专业: 半导体晶体与薄膜材料
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你好，想问下影响离子术辅助沉积中离子原子到达比的因素有哪些？？ 我查了一些文献，只查到了离子原子到达比对薄膜的影响。并没有提到如何影响的离子原子到达比。或者你们有没有推荐的文献。(???︿???) 发自小木虫IOS客户端 |
4楼2019-05-18 10:20:08
