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[交流]
【求助】射频磁控溅射氧化铝（氧化铝靶）
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仪器：沈科仪JGP450 沉积氧化铝参数： 射频电源功率：300W（反射功率约22W） 溅射气压：3Pa 时间：2h 靶基距：6cm，氧化铝靶直径：60mm 起辉正常，但沉积2个小时后， 采用各种探测手段没有发现基片上有氧化铝 溅射大于10小时后，氧化铝靶上的刻蚀坑也很浅（只有淡淡一圈黄色痕迹）。 请大家帮我分析下可能的原因是什么？ 先谢谢大家了  [ Last edited by feixiang132 on 2009-5-13 at 10:31 ] |
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