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yingzi839

银虫 (小有名气)

[交流] 请教

请问,为什么同一种半导体,研磨后光催化降解效率下降呢?

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铁血枪手

银虫 (小有名气)


yingzi839(金币+1,VIP+0):thanks 5-10 10:36
晶型遭破坏了吧
物化结构受损

[ Last edited by 铁血枪手 on 2009-5-10 at 09:27 ]
我们走得太快,灵魂都跟不上了.................
2楼2009-05-10 09:26:30
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明梦

银虫 (小有名气)

研磨就相当于其受力的作用呢,说明这种半导体对力很敏感!
3楼2009-05-10 09:54:57
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huaxue1314

金虫 (小有名气)


yingzi839(金币+1,VIP+0):空间阻碍?能再说清楚点吗 5-10 10:38
楼上的说晶型遭破坏是不对的,
研磨后颗粒变小,光催化降解空间阻碍变大,所以效率下降!
4楼2009-05-10 09:58:17
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lhl8233

铁杆木虫 (职业作家)

一人崇拜=亿人崇拜


yingzi839(金币+1,VIP+0):thanks 5-10 11:21
光催化降解阻碍加大是对的 但是 不是由于研磨造成的是在研磨时晶粒之间的力的作用时晶粒与晶粒之间的间隔加大使光的折射增大时光催化效能下降!!
让一切都随风去吧!
5楼2009-05-10 11:17:49
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tanlaixun

禁言 (知名作家)

本帖内容被屏蔽

6楼2009-05-10 12:07:35
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doctorzfj

铁杆木虫 (正式写手)

晶型遭破坏了
7楼2009-05-10 12:08:51
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