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碳布上沉积和铜片上电镀哪个相对容易点 已有2人参与
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最近看文献,发现泡沫镍上电沉积金属0.5ma30min就沉积上了,可是查阅文献,在铜片上,铁片上电沉积,电流动辄10-100ma/cm2 ,我想问一下这是为什么?就这么难沉积吗?这样碳布上沉积是不是也是类似的。 发自小木虫Android客户端 |
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