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红外反峰
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求助： 在硅氧基底上自组装长链烷烃自组装膜，以修饰前的硅氧基底为背景，测修饰后的硅基表面的红外光谱图。透过模式，透过率为纵坐标。 当扫描次数为256时，扫出的亚甲基，二氧化碳，硅氧键特征峰均为向下的正常峰。 增加扫描次数为512时，扫出的亚甲基，二氧化碳，硅氧键特征峰均变为向上的峰。 哪位高手能给解释下原因啊。。。。。。 |
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