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AresIMBA

新虫 (小有名气)

[求助] P123的模板剂如何温和的去除?!

先说我的样品吧,是10*10*0.5mm的纯钛基底,利用aptes修饰了-nh2,再利用eisa方法沉积了一层sba-15介孔硅薄膜,但是模板剂p123如何很好地去除?
1.煅烧?———担心550度高温下破坏aptes,造成表面涂层剥脱
2.乙醇萃取?——看文献都是要把样品碾成粉末放到索氏提取器里,我的样品碾不了,直接完整的放进去萃取能行吗?
3.nature material上有一篇文献(electrochemically assisted self-assembly of mesoporous silica thin film,doi:10.1038/nmat1951),他去除ctab模板剂的方法相当温和:含有0.1m hcl的乙醇溶液中搅拌5分钟即可,这对我来讲可行吗?
4.此外还有什么办法我可以使?

跪谢各位大神指点!!!@dut_ameng
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一分六

铁杆木虫 (职业作家)

P123的分解温度是360度左右,450度应该可以完全出去

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2楼2019-01-25 10:17:53
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AresIMBA

新虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 一分六 at 2019-01-25 10:17:53
P123的分解温度是360度左右,450度应该可以完全出去

450度我的硅烷偶联剂也应该就没了吧

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3楼2019-01-30 08:50:44
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清雅居竹

新虫 (初入文坛)

您好,请问您做的是棒吗

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4楼2019-08-12 19:58:20
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