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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 以CTAB为模版，外面包覆一层二氧化硅
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史东生

新虫 (小有名气)

[求助] 以CTAB为模版，外面包覆一层二氧化硅

用CTAB为模板，单包覆油相铁后，想包一层硅烷，中途要离心去除多余CTAB，产生大量泡沫怎么处理的，我做了几次发现稳定很差，请各位帮忙提提意见，感恩！

@dut_ameng 发自小木虫IOS客户端
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1楼2019-01-19 22:36:29
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史东生

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 小猪猪爱吃肉 at 2019-01-19 22:44:19
你是做分子印迹吗

做材料的

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4楼2019-01-20 10:20:33
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史东生

新虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by zsw15 at 2019-01-19 23:32:41
少放点CTAB，太多了根本洗不干净

你之前尝试过没有？

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5楼2019-01-20 10:21:03
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史东生

新虫 (小有名气)
引用回帖:
6楼: Originally posted by 小猪猪爱吃肉 at 2019-01-20 10:58:21
我是直接四氧化三铁包硅

老哥，你是共沉淀法做的铁，我是高温热解法，最近做的有点难！

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7楼2019-01-20 15:32:34
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史东生

新虫 (小有名气)
引用回帖:
8楼: Originally posted by 小猪猪爱吃肉 at 2019-01-20 18:34:22
不，我溶剂热做的
...

做出来是水相么？

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9楼2019-01-21 09:53:31
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