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用AAO电沉积Ni时遇到的问题 已有2人参与
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我用aao作为模版在0.1M/L硫酸镍溶液中，电沉积Ni，沉积电压3v，后来发现加入氯化钠或者硫酸钠后，能明显提高电流密度，个人认为加入这两者物质后促进了氢气的生长速率，但是不知道本质的原因是什么，哪位大神能说下原因谢谢！ @Gamry-电化学 @a88592718 发自小木虫IOS客户端 |
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【答案】应助回帖
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小小泡蛋(小毛球代发): 金币+6, 感谢参与 2019-02-21 06:13:27
小小泡蛋(小毛球代发): 金币+6, 感谢参与 2019-02-21 06:13:27
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很有意思的方向，下面是篇综述，其中提到Ni 在AAO 上的沉积， https://pdfs.semanticscholar.org ... 36b550c51008a3e.pdf 下面一篇论文: https://sundoc.bibliothek.uni-ha ... /07/07H156/prom.pdf 添加的一点是：加入氯化钠或者硫酸钠，会提高电解质导电率，也就是所谓的支持电解质，导致加在AAO电极上的实际电位提高，进而提高了电流密度，当然也或许贡献了氢气还原的程度。 至于氢气还原反应,可以调试pH 来调整,下面的文献告诉电解质的影响. https://www.researchgate.net/pub ... dium_Lauryl_Sulfate |
3楼2019-02-21 03:59:35
hollya
至尊木虫 (文坛精英)
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2楼2019-01-10 00:43:52
4楼2020-09-08 11:16:47