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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 催化 » 催化剂制备 » 除去无机物中的SiO2问题
北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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zilongchn

实习版主

优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！

[交流] 除去无机物中的SiO2问题

貌似现在可以用HF or NaOH，KOH等

但是，使用HF，NaOH，KOH等的条件是怎么样的呢，浓度和温度
需要搅拌吗，我的材料里面还有氧化锰，不知道跟HF反应吗

谢谢了
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1楼 2009-05-01 23:31:51
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珠帘蜂

专家顾问

优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！
★
zouzhq(金币+1,VIP+0):谢谢应助，欢迎常来催化版！ 5-3 15:03
可以先搞点HF泡泡试试嘛，到时去分析一下就知道了。不过操作HF时一定要非常小心。在抽风厨里操作，戴三层手套，穿长袖长裤，一定要谨防HF触及皮肤。据说这东西会吸体内的Ca离子的，人体急剧缺钙的时候会产生肌肉抽搐，或心脏功能受损。
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知识就是力量，热爱学习。
6楼2009-05-03 13:43:43
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铈锆

主管区长

优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！
我最近也有做含锰的样，不知道你做的是什么材料，对SiO2的要求是多少.
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2楼2009-05-02 08:38:20
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WG222

版主

优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！
你的材料有哪些物种都没说清啊...
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3楼2009-05-02 13:56:52
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珠帘蜂

版主

优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！
★
hr5898(金币+1,VIP+0):谢谢应助！ 5-3 10:01
我做微加工实验的时候就是用HF去SiO2绝缘层的，HF浓度为10%，常温下泡2min就能去掉。暂时发现HF常温条件下不能腐蚀有机光刻胶，Cr、Au。不知对你有没有帮助。
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4楼2009-05-02 15:25:51
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