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[交流] 金膜表面溅射二氧化硅已有3人参与

在金膜表面，磁控溅射几十纳米二氧化硅，后续实验中（会进入丙酮溶液，水中超声），发现二氧化硅会脱落。这应该如何解决？

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1楼 2018-12-06 17:37:43

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perry_ping

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2楼2018-12-07 09:22:42

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gyxzby

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★
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1、减少超声时间，通过浸泡+超声过程达到同样的目的；
2、分析你SiO2脱落情况，是全部脱落还是局部脱落，脱落的位置和没有脱落位置有什么区别，有无脏污，粗糙度有无区别等方面分析，查找原因，解决问题。
3。尝试其他方法制备SiO2，PECVD方式尝试一下？

因为没做过Au表面制备SiO2，只是一些建议，仅供参考！

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3楼2018-12-07 15:57:00

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引用回帖:

3楼: Originally posted by gyxzby at 2018-12-07 15:57:00
1、减少超声时间，通过浸泡+超声过程达到同样的目的；
2、分析你SiO2脱落情况，是全部脱落还是局部脱落，脱落的位置和没有脱落位置有什么区别，有无脏污，粗糙度有无区别等方面分析，查找原因，解决问题。
3。尝试 ...

全部脱落