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18337822372新虫 (小有名气)
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镁热还原SiO2出现了硅酸镁，除不干净，最后产物有氟化镁怎么回事？已有1人参与
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最近小弟刚开始做Mg热还原二氧化硅制备Si。 选取的条件是650℃-5h。直接放在刚玉坩埚里，在管式炉Ar气气氛下烧的。 XRD图上显示有硅酸镁和硅化镁的峰。 先用盐酸洗，洗完之后还有硅酸镁的峰 再用HF酸洗，硅酸镁峰没有了，但是又出现了氟化镁的峰。 这是怎么回事？ 因为Mg和二氧化硅分布的不均匀么？还是其他原因？ 还有怎么除掉硅酸镁。 |
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2楼2018-11-30 13:10:30
18337822372
新虫 (小有名气)
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3楼2018-12-02 14:29:57
4楼2018-12-23 19:34:03
【答案】应助回帖
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第一：镁热还原二氧化硅的完整过程并不是一个简单的生成氧化镁的理想化学方程式，有副产物，比如硅酸镁 第二：我猜测你是按照0.8的理论镁用量配的，这个问题我正在考虑，是否应该过量一点。因为你做了5个小时，很多论文都是3小时，如果延长时间并不能使反应彻底，那就有可能是配比不太够（我个人猜测） 第三：氢氟酸清洗之后有没有用去离子水再洗一遍？我一般是酸洗后离心，离心后水洗再离心，能去掉氟化镁。如果没有水洗，那就肯定有氟化镁。 第四：镁热还原二氧化硅，我感觉做的精巧深入的话，可以出一些论文，但是基本没有应用前景（有次学术会议，跟大牛简单聊了几句这个问题，因为用到酸洗，甚至避不开氢氟酸，产业化前景几乎为0） |
5楼2020-01-02 10:04:53