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木虫 (小有名气)

[求助] 光催化反应中材料带隙问题???

1,适合光催化反应的材料带隙一般在多少呢?
2,禁带宽度2.5eV,是不是一个合适于光催化反应的半导体带隙。
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wonderfulll

至尊木虫 (文坛精英)

3.5-1.3eV,是目前光催化材料常见禁带,要求可见光响应的话,就一般小于3eV

发自小木虫IOS客户端
2楼2018-11-23 17:15:07
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