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dc2003121106

金虫 (著名写手)

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专业: 金属材料的微观结构

[交流] 【前沿】Intel研制出半导体新材料,功耗可降9成

日前Intel公司透露，他们在半导体新材料的研究上又取得了重大突破，使用一种名为Group III-V的混合元素材料制造出了硅基P-Channel晶体管。

　　据了解，传统的硅（IV族元素）晶体管被称为Group IV材料。按照同样的规则，由于混合元素材料包含化学元素周期表中III族到V族的多种元素，因此命名为Group III-V。

　　Intel表示，新混合材料制成的P-Channel晶体管性能前所未有。和去年研发的新材料N-Channel晶体管一起制成的半导体电路，其需要的电压只是现有产品的一半，功耗更是只有当前处理器的十分之一，前景十分广阔。

　　N-Channel和P-Channel晶体管正是CMOS电路的两大组成部分。一年前，Intel同样使用Group III-V材料，制造出了硅基N-Channel晶体管。因此现在新材料P-Channel晶体管的诞生标志着Intel已经可以使用Group III-V新材料制造实际电路。

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