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求助，关于多弧离子镀PVD的工艺流程问题 已有2人参与
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我用多弧离子镀制备TiN （1）不知道洗靶的操作，洗的时候靶材的挡板是打开还是关闭？应该把洗靶这个操作放在什么位置。 （2）镀膜的时候可不可以同时同氮气和氩气？ （3）工艺参数中，最主要的因素是什么？ （4）清洗工件的时候，我用的高偏压，低占空比，这个时候通入的氩气流量有没有要求？ （5）清洗的时候，加不加热？哪一步开始加热？ （6）加热设置的温度和实际沉积温度不相符，怎么控制？ |
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yanchunhe
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5楼2018-12-18 20:15:05