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浮醉青云

新虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射生产的二硫化钼和用二硫化钼分散液旋涂的薄膜一样吗 已有2人参与

各位前辈,老师想让我用旋涂法在硅片表面做一层二硫化钼薄膜,做了几次发现不好做,同时看到可以用磁控溅射的方法在基底表面做一层薄膜。然后就问老师,老师说磁控溅射的没晶体结构还是啥的,就好比碳也可以溅射,但溅射出来的是石墨烯吗。。。我一下子懵了。。。
请问磁控溅射生产的二硫化钼和用二硫化钼分散液旋涂的薄膜一样吗?。。。。。。。哪里不同。。。。
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奇异师兄

禁虫 (初入文坛)

本帖内容被屏蔽

2楼2018-09-16 16:50:46
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xjian2010

银虫 (正式写手)

3楼2018-11-16 15:52:20
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四季青

新虫 (初入文坛)

4楼2018-11-29 07:42:44
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浮醉青云

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
4楼: Originally posted by 四季青 at 2018-11-29 07:42:44
请问您旋涂上了吗

可以旋,但分散液这种东西真的不好做。。。
5楼2019-03-21 09:03:57
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祝忠泰

新虫 (著名写手)

6楼2019-03-26 13:40:57
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胥先生

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
浮醉青云: 金币+1 2019-08-02 15:40:06
肯定不一样啊,磁控是柱状,CVD是片状,旋涂后退火是层状
7楼2019-08-02 09:37:48
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浮醉青云

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
4楼: Originally posted by 四季青 at 2018-11-29 07:42:44
请问您旋涂上了吗

可以旋涂,浓度高点好旋涂,但总体来说旋涂分散液这种方法极不稳定
8楼2019-08-02 15:41:25
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