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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 硅和氢氧化钾的反应中，氢氧化钾能否充当掩模？
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科研巨兽

铁虫 (初入文坛)

[求助] 硅和氢氧化钾的反应中，氢氧化钾能否充当掩模？ 已有1人参与

即什么条件下可以使该反应中硅的腐蚀速率高于二氧化硅？

@yswyx 发自小木虫Android客户端
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1楼 2018-07-24 14:32:16
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科研巨兽

铁虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by yswyx at 2018-07-25 13:50:16
没看懂，KOH和氧化硅的反应速率本来就远低于硅。
一般KOH腐蚀的掩膜是用LPCVD的氮化硅，也有用特殊polymer的。

70摄氏度水浴腐蚀氧化硅能充当掩膜吧？

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4楼2018-07-25 18:48:52
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科研巨兽

铁虫 (初入文坛)
引用回帖:
1楼: Originally posted by 科研巨兽 at 2018-07-24 14:32:16
即什么条件下可以使该反应中硅的腐蚀速率高于二氧化硅？
yswyx

顶

发自小木虫Android客户端
2楼2018-07-25 12:06:30
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
没看懂，KOH和氧化硅的反应速率本来就远低于硅。
一般KOH腐蚀的掩膜是用LPCVD的氮化硅，也有用特殊polymer的。
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3楼2018-07-25 13:50:16
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
看腐蚀多深了，深了不行。氧化硅也必须是热氧

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5楼2018-07-25 20:36:30
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