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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 光刻胶的去除问题
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qqw2410

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻胶的去除问题 已有1人参与

请问吧里大神们，现在是否有一种聚合物光刻胶，在曝光显影后，未曝光部分可以在一个高温环境下（600℃左右）焙烧去除？
如果有知道的，可否提供该光刻胶的具体型号，最好是有一些相关资料。
非常感谢，新人没啥金币，一共就两个。。
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1楼 2018-07-04 17:45:04
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伽鲁特

至尊木虫 (著名写手)
这是蒸镀的材料怕去胶剂，所以要先退火后去胶吗？

发自小木虫IOS客户端
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2楼2018-07-04 20:05:45
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qqw2410

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 伽鲁特 at 2018-07-04 20:05:45
这是蒸镀的材料怕去胶剂，所以要先退火后去胶吗？

不是的，我是看一篇发明专利中写道，是用这一种光刻胶来定型厚膜电阻形状，就是对光刻曝光、显影形成厚膜电阻的图案（槽），然后再以这个图案印刷厚膜电阻，最后一同放进烧结炉焙烧。
但是一般看光刻胶都是用去胶剂的，而且只找到一篇专利写道这个方法，所以想问下是否存在这种可以通过高温去除（烧没了）的光刻胶。
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3楼2018-07-04 20:33:34
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松井咲子

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
qqw2410: 金币+5, ★★★★★最佳答案 2018-07-08 20:46:27
嗯。。。这个不是什么特殊的光刻胶，所有的碳氢化合物（或者说有机物）都可以被“烧没了”，这叫灰化（人也一样。。。）。你说的这个专利里用到的技术我也做过，不过用来做别的。这种大深宽比的用SU8就可以做的。600度或700度两个小时就可以灰化完全。但是不是说曝光部分就能留下来，不曝光部分就能去除，所有的有机物都灰化了。你再理解一下那篇专利，就是这样的。
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liushui21
4楼2018-07-07 11:09:45
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qqw2410

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
4楼: Originally posted by 松井咲子 at 2018-07-07 11:09:45
嗯。。。这个不是什么特殊的光刻胶，所有的碳氢化合物（或者说有机物）都可以被“烧没了”，这叫灰化（人也一样。。。）。你说的这个专利里用到的技术我也做过，不过用来做别的。这种大深宽比的用SU8就可以做的。60 ...

感谢您的回答，原来真的可以这样做。那我还想请问下，这个技术灰化后应该会在基板上有残留物吧？这个残留物要怎么去除呢，酒精擦拭掉就可以了么？
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5楼2018-07-08 20:49:09
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liushui21

银虫 (正式写手)
送红花一朵
引用回帖:
4楼: Originally posted by 松井咲子 at 2018-07-07 11:09:45
嗯。。。这个不是什么特殊的光刻胶，所有的碳氢化合物（或者说有机物）都可以被“烧没了”，这叫灰化（人也一样。。。）。你说的这个专利里用到的技术我也做过，不过用来做别的。这种大深宽比的用SU8就可以做的。60 ...

我也想了解下。其实真心不太懂光刻胶。我想在我的基板上筑个槽，感觉跟那个专利的差不多。

通常情况下，可以得到一个大概20um宽 10um深的槽吗？
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6楼2018-08-05 16:21:55
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