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ws4231153

新虫 (小有名气)

[交流] 文献上看到反溅射清洗界面 已有5人参与

做了两年的磁控溅射 今天看到文献上有反溅射这个方法 通ar气可以清洗靶材并且可以得到清洁的洁面,请问大家反溅射到底是什么啊

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野人禾禾

金虫 (正式写手)


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额,反溅射应该是清洗基片的,等离子清洗。 你说的清洗靶面应该是预溅射。

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擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
2楼2018-06-14 09:48:28
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ws4231153

新虫 (小有名气)

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引用回帖:
2楼: Originally posted by 野人禾禾 at 2018-06-14 09:48:28
额,反溅射应该是清洗基片的,等离子清洗。 你说的清洗靶面应该是预溅射。

反溅射要怎么操作啊 我的溅射设备 在通气体流量那里有个清洗的档位 但我不知道有什么用

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3楼2018-06-14 09:54:24
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野人禾禾

金虫 (正式写手)


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引用回帖:
3楼: Originally posted by ws4231153 at 2018-06-14 02:54:24
反溅射要怎么操作啊 我的溅射设备 在通气体流量那里有个清洗的档位 但我不知道有什么用
...

你所说的通气体流量的应该是MFC控制器上的,那个清洗的功能是将MFC阀门开到最大来用气体重洗阀门的。一般没毛用的。

而反溅射需要硬件支持的,一个是你的基片支持单独接电源并与腔体绝缘,二是有单独的电源用来等离子清洗。反溅射的原理就是Ar离子轰击带电的基片。

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擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
4楼2018-06-14 10:01:14
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ws4231153

新虫 (小有名气)

送红花一朵
引用回帖:
4楼: Originally posted by 野人禾禾 at 2018-06-14 10:01:14
你所说的通气体流量的应该是MFC控制器上的,那个清洗的功能是将MFC阀门开到最大来用气体重洗阀门的。一般没毛用的。

而反溅射需要硬件支持的,一个是你的基片支持单独接电源并与腔体绝缘,二是有单独的电源用来 ...

哦 原来如此 谢谢大神解答

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5楼2018-06-14 10:25:41
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williamsh

新虫 (小有名气)


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手动射频电源,把反溅射功率调到最大

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6楼2018-06-16 20:37:40
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njut_wj

铁虫 (初入文坛)


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反溅射就是等离子刻蚀。溅射是等离子轰击靶材表面,靶材是阴极; 反溅射即刻蚀时等离子轰击基片表面,基片是阴极。 过程是在两个不同的腔体进行的。
反溅射的目的就是清洁基片表面,将基片表面的金属氧化物去除,降低接触电阻提高电性能等。
Focus
7楼2018-08-16 17:01:12
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wyx4333

新虫 (初入文坛)


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看了大家的回帖,都是搞磁控溅射的,我主要是Al的溅射,有机会交流交流
8楼2018-10-06 11:25:45
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zfxch

银虫 (著名写手)


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引用回帖:
8楼: Originally posted by wyx4333 at 2018-10-06 11:25:45
看了大家的回帖,都是搞磁控溅射的,我主要是Al的溅射,有机会交流交流

老兄,100W,4Pa,射频溅射Al 5min,没溅射上,是怎么回事儿呢
新的起点、新的征程!
9楼2020-09-05 13:59:16
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