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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 哪个单位可以代加工吗？pecvd沉积 sio2约 200nm
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水电费主管

铁虫 (初入文坛)

[求助] 哪个单位可以代加工吗？pecvd沉积 sio2约 200nm 已有1人参与

就几个1.5mm的碎片

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1楼 2018-06-13 12:35:54
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091820053

禁虫 (知名作家)
本帖内容被屏蔽
2楼2018-06-13 12:37:51
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水电费主管

铁虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 091820053 at 2018-06-13 12:37:51
这里可以

你们测过sio2薄膜绝缘性吗？

发自小木虫Android客户端
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3楼2018-06-13 13:44:55
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zsnano

金虫 (正式写手)
★
感谢参与，应助指数 +1
月牙儿的微笑: 金币-1, 屏蔽内容, 违规存档, 不允许留联系方式 2018-06-15 16:16:03
本帖内容被屏蔽
4楼2018-06-14 09:33:47
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zsnano

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
3楼: Originally posted by 水电费主管 at 2018-06-13 13:44:55
你们测过sio2薄膜绝缘性吗？
...

PEcvd沉积的sio2，厚度300nm+-5,电导率实测值在1012Ω/cm，在绝缘体的范围内。
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» 本帖已获得的红花（最新10朵）

水电费主管
5楼2018-06-14 10:01:48
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水电费主管

铁虫 (初入文坛)
送红花一朵
引用回帖:
5楼: Originally posted by zsnano at 2018-06-14 10:01:48
PEcvd沉积的sio2，厚度300nm+-5,电导率实测值在1012Ω/cm，在绝缘体的范围内。...

请问Si3N4绝缘性是否更好？另外，我使用的样片不适合在高温下进行氧化生长

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6楼2018-06-14 10:21:16
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zsnano

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
6楼: Originally posted by 水电费主管 at 2018-06-14 10:21:16
请问Si3N4绝缘性是否更好？另外，我使用的样片不适合在高温下进行氧化生长
...

常规温度75度左右的氧化层，致密性肯定没有300度做好的。看你使用需求，可以考虑做厚点1um。
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7楼2018-06-14 11:10:57
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wanghuaxing

禁虫 (小有名气)
★
月牙儿的微笑: 金币-1, 屏蔽内容, 违规存档, 不允许留联系方式 2018-06-15 16:16:18
本帖内容被屏蔽
8楼2018-06-14 21:13:20
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zsnano

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
6楼: Originally posted by 水电费主管 at 2018-06-14 10:21:16
请问Si3N4绝缘性是否更好？另外，我使用的样片不适合在高温下进行氧化生长
...

常规温度75度左右的氧化层，致密性肯定没有300度做好的。看你使用需求，可以考虑做厚点1um。
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9楼2018-06-15 09:08:35
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