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jichenxi0730铁虫 (小有名气)
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[交流]
光刻胶AZ5214e和AR-p5350哪个更好清洗，哪个更好进行氧等离子体刻蚀？ 已有1人参与
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如题，准备用正胶进行刻蚀。哪个好被清洗掉，因为我的样品不可以超声只能浸泡，然后我要进行氧等离子体刻蚀，哪个与氧气反应更小？因为之前在网上查看到说AZ5214e在遇氧容易曝光，是这样吗？ 发自小木虫IOS客户端 |
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