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jichenxi0730铁虫 (小有名气)
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[交流]
光刻胶AZ5214e和AR-p5350哪个更好清洗,哪个更好进行氧等离子体刻蚀? 已有1人参与
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如题,准备用正胶进行刻蚀。哪个好被清洗掉,因为我的样品不可以超声只能浸泡,然后我要进行氧等离子体刻蚀,哪个与氧气反应更小?因为之前在网上查看到说AZ5214e在遇氧容易曝光,是这样吗? 发自小木虫IOS客户端 |
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