| 查看: 1099 | 回复: 1 | |||
jichenxi0730铁虫 (小有名气)
|
[交流]
光刻胶AZ5214e和AR-p5350哪个更好清洗,哪个更好进行氧等离子体刻蚀? 已有1人参与
|
|
如题,准备用正胶进行刻蚀。哪个好被清洗掉,因为我的样品不可以超声只能浸泡,然后我要进行氧等离子体刻蚀,哪个与氧气反应更小?因为之前在网上查看到说AZ5214e在遇氧容易曝光,是这样吗? 发自小木虫IOS客户端 |
» 猜你喜欢
请问对标matlab的开源软件octave的网站https://octave.org为什么打不开?
已经有1人回复
求助两种BiOBr晶体的CIF文件(卡片号为JCPDS 09-0393与JCPDS 01-1004 )
已经有0人回复
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有192人回复
哈尔滨工程大学材化学院国家级青年人才-26年硕士招生
已经有0人回复
求助Fe-TCPP、Zn-TCPP的CIF文件,或者CCDC号
已经有0人回复
2楼2018-07-19 09:15:31












回复此楼