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Teflon干法刻蚀
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| 最近一直在做Teflon的刻蚀，使用了HARRICK PLASMA Cleaner和Alfar Q150等离子体去胶机两台进行O2 plasma干法刻蚀，但是发现都去不掉。不管是光刻胶还是Teflon都很难去掉，延长时间和强度感觉没太大区别。跟文献里面说的打个几秒就掉了完全不一样。。。请问是我用的仪器有问题吗还是什么原因导致的呢？一般光刻胶或者Teflon干法刻蚀要怎么做呢？ |
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