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铜箔上CVD单层石墨烯 已有1人参与
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最近使用CVD沉积石墨烯，用的基体是大约40微米厚的商业铜箔，通过化学抛光大致抛到接近镜面的效果，然后在1050度下热处理30min，沉积石墨烯的工艺选择的是一篇Science上的，但是我合成出来的铜箔/石墨烯，石墨烯并不完整，而且通过PMMA转移的时候很容易破碎，每次融掉铜箔后都不是完整的一层薄膜。请问问题主要在哪里？ 1） 我在旋涂PMMA的时候尽量保证铜箔是平的，但是热处理的铜箔非常软，用尖口镊子夹住放在匀胶机上很难做到没有局部皱褶缺陷什么的，这样会导致膜的不完整么，我用的PMMA溶液是4 wt% 苯甲醚，每次旋涂15微升。 2） 需要在涂完胶之后把铜箔没有抛光的一面的石墨烯去掉么，这层石墨烯会不会造成上层的破碎？ 3）我还采用过直接腐蚀转移的方法，就是在过硫酸钠溶液中加入己烷，这种刻蚀方法不需要涂胶，当问题是文献上的辅助视屏显示，即使没有涂胶，铜箔刻蚀完后，用硅片也可以很容易捞起来，证明石墨烯是有一定强度的；但是我的铜箔/石墨烯，采用相同的方法融掉铜以后，石墨烯完全就散掉了，之间没有任何的结合力，这是为什么？如何才能合成出具有一定结合力的石墨烯，尽管形成的晶核多，单片完整石墨烯的尺寸低，但是能互相拼接的，我沉积了一个小时的还是会散掉。 |
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hetieshuai
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