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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 用氢氧化钾刻蚀二氧化硅的氢氧化钾的浓度是多少？
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云由水生

新虫 (小有名气)

[求助] 用氢氧化钾刻蚀二氧化硅的氢氧化钾的浓度是多少？ 已有1人参与

用氢氧化钾刻蚀二氧化硅（大约300nm），氢氧化钾的浓度是多少？
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小草，即使被踩在脚下，也不失报春心
1楼 2018-04-14 16:11:45
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小邓学习

银虫 (著名写手)
1摩尔

发自小木虫IOS客户端
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2楼2018-04-16 19:26:53
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小邓学习

银虫 (著名写手)
80度

发自小木虫IOS客户端
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3楼2018-04-16 19:26:59
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

搞错了吧，氢氧化钾是腐蚀硅的，腐蚀氧化硅用HF。
你查一下BOE就知道了。
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4楼2018-04-19 17:43:55
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淘气小孩1116

新虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by yswyx at 2018-04-19 17:43:55
搞错了吧，氢氧化钾是腐蚀硅的，腐蚀氧化硅用HF。
你查一下BOE就知道了。

可以刻蚀

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happy~
5楼2018-05-02 09:04:41
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人间时光

新虫 (初入文坛)
一般用氢氧化钾或者TMAH可是Si，可是速率根据硅的晶面不同而产生的各项异性刻蚀。一般用BOE溶液可是二氧化硅，boe一般的配比为HF：NH4F：H2O=30ml：60g：100ml（HF浓度为48%），
刻蚀速率在100-200nm/min。但无论用那种溶液可是，每一种溶液对硅和二氧化硅都有选择比。这些都属于湿法刻蚀，也可以选择干法刻蚀。如rie，ICP

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6楼2018-05-11 18:18:19
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