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用氢氧化钾刻蚀二氧化硅的氢氧化钾的浓度是多少？ 已有1人参与
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| 用氢氧化钾刻蚀二氧化硅（大约300nm），氢氧化钾的浓度是多少？ |
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2楼2018-04-16 19:26:53
3楼2018-04-16 19:26:59
yswyx 
专家顾问 (著名写手)
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4楼2018-04-19 17:43:55
淘气小孩1116
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- 性别: MM
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5楼2018-05-02 09:04:41
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一般用氢氧化钾或者TMAH可是Si，可是速率根据硅的晶面不同而产生的各项异性刻蚀。一般用BOE溶液可是二氧化硅，boe一般的配比为HF：NH4F：H2O=30ml：60g：100ml（HF浓度为48%）， 刻蚀速率在100-200nm/min。但无论用那种溶液可是，每一种溶液对硅和二氧化硅都有选择比。这些都属于湿法刻蚀，也可以选择干法刻蚀。如rie，ICP 发自小木虫Android客户端 |
6楼2018-05-11 18:18:19
