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新虫 (小有名气)

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[交流] 蒸发镀膜用什么材质的舟，或者坩埚呢？具体选用标准分享

蒸发镀膜用什么材质的舟，或者坩埚呢？具体选用标准分享
薄膜材料是指通过对其进行热、电子枪蒸发或磁控溅射得到薄膜的一种功能材料。主要产品应用于半导体制造、磁记录、平面显示和太阳能等产业领域，以下产品我们能提供的常规规格为1mm-10mm颗粒，压片或者粉末，或者各种规格靶材。
化学符号材料名称熔点/℃ 蒸发温度/℃ 蒸发方法密度/（g/cm3）折射率  对应波长/μm 透明区/μm 膜结构机械化学性备注
2001 银 961 1047 Ta舟,Mo舟 10.5 0.050 0.5 可见与红外化学性质稳定镀制反光膜和分光膜
Ag 0.090 0.8
1.89 4.0
AgBr 溴化银 434 电阻加热 6.47 2.25 0.55 软不溶于水、乙醇、乙醚和多数酸中，溶于氨水、饱和食盐溶液、饱和溴化钾、氰化碱、硫代硫酸钠溶液，微溶于碳酸铵溶液，遇光和空气易变，一般用于红外
AgSe 硒化银 897 电阻加热 8 半导体材料，20℃的禁带宽度为0.08eV
2002 铝 660 约1000 钨、钽丝 2.7 0.82    0.546 可见光镀制反光膜，刻划底层
Al 1.99    0.8
5.97    4.0
2003 三氧化二铝 2020 1600 W舟、电子束、Al阳极氧化、反应溅射 3.6、 1.53～1.60  0.55，室温 0.2～8 三角晶系或无定形，P=1.00,氧压为2*10-4时P=0.7 极牢固，抗潮湿，酸能腐蚀，溶于氨盐电阻加热蒸发产生吸收，衬底加热时，折射率与冷镀相差不多。一般用于镀制保护膜、多层膜及电子衍射试样支持膜
Al2O3 3.98（20℃） 1.59～1.64  0.55，300℃
2004 氟化铝 900 电阻加热 1.23               0.55 ，真空中 >0.2 无定形P=0.64(35℃) 软有毒
AlF3 1.38～1.39 0.55
AlP 磷化铝 2.58 3.4    1～8 >0.4 深灰或深黄色晶体遇王水发生爆炸和着火遇潮湿和酸放出剧毒！用于红外

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