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在直径70-100nm，深约100nm的纳米孔阵列中填入ITO 已有1人参与
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| 如题，我在氧化铝模板上打了直径70-100nm，深约100nm的纳米孔阵列，想要在其中填充ITO或者半导体氧化物，然后测量其光学性质，如消光谱等。用磁控溅射填充后，材料表面存在较大起伏，散射很严重。请问各位有没有什么方法能够填充后表面形貌好一些，散射小一些，同时光学上的透过率高一些的方法？ |
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