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xiaofan700

铁杆木虫 (正式写手)

[交流] 【求助】关于微纳加工的问题(急!)

想加工出100纳米-5微米的微纳结构,请问用什么技术合适呢?(加工硅片,高分子材料均可)该技术能够加工的最大尺寸是多少呢?(50mm*50mm可否达到?)
还有就是哪里可以提供这样的加工呢?
本人为化学出身,对微电子和微纳结构基本不懂。只是课题方向为研究高分子表面的微结构对吸附的影响,需要寻找加工好的微纳米结构的模板。还望各位虫友指教!不胜感激!!!

[ Last edited by xiaofan700 on 2009-2-26 at 16:59 ]
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quanbaogang

木虫 (正式写手)


大笨猪和聪明羊(金币+1,VIP+0):欢迎参与讨论^_^ 2-27 11:30
一个微米以上可以用光刻(当然国内都是接触式曝光)实现;100~1000nm只能用电子束曝光了,因为投影光刻只是在工厂才有。如果你要100nm~5um的图案在一个样品上实现,一般解决方法为套刻,即电子束曝光和紫外光刻结合。另外电子束曝光实现你说的2英寸面积的样品制作有些费时间。

楼主要拿出很多钱来啊!

具体的图像和方案拿出来大家讨论吧!
3楼2009-02-27 10:09:01
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memser


wdwsnnu(金币+1,VIP+0):3x,欢迎常来 2-26 18:13
中科院上海微系统所啊~~~
具体联系方式见页面:http://www.sim.ac.cn/wxtgy/index.htm

[ Last edited by memser on 2009-2-26 at 17:31 ]
2楼2009-02-26 17:30:07
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nano-man


kqy920(金币+1):谢谢应助!
我这边曾经有人做过,我不知道你做什么材料,你要考虑好这种材料在电极做好后是不是很好接触,这和材料有关系的
4楼2009-02-27 10:26:12
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xiaofan700

铁杆木虫 (正式写手)

引用回帖:
Originally posted by quanbaogang at 2009-2-27 10:09:
一个微米以上可以用光刻(当然国内都是接触式曝光)实现;100~1000nm只能用电子束曝光了,因为投影光刻只是在工厂才有。如果你要100nm~5um的图案在一个样品上实现,一般解决方法为套刻,即电子束曝光和紫外光刻结 ...

在我所看到的文献里,这些微结构多是有ICP刻蚀的硅片或者是用飞秒激光打出来的高分子材料。这两种技术能够实现刻蚀尺寸有多大呢?(微米or纳米)
我们的整体思路是:通过微加工制备出具有微纳结构的模板(图案自己选定),然后应用非溶剂致相法在模板上制备出带有这种微结构反结构的高分子膜。高分子膜的制备过程肯定没有问题,此中的关键就是模板了。
模板上的图案会有很多种,但大都应该是简单的重复结构。如:立方柱,圆柱。关键的地方就是柱高、柱间距、柱的直径和长宽。
所做模板的大小也是一个问题,太小通过其制备的膜不具有应用价值(实在不行也可以,先做理论上可行性探索)。所以想知道:(一)某种加工技术最大加工尺寸。(二)哪里可以提供这种加工;(三)加工的时间和费用
优雅的背后野性怎能驯服?
5楼2009-02-27 10:38:15
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