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分子印迹的洗脱
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本人在做紫杉烷类的分子印迹聚合物，反应条件60℃下自聚合，反应结束检测剩余反应液中只有少量的模板分子剩余，但是将得到的印迹聚合物进行洗脱后，模板分子洗不掉？请问有哪位大神知道其问题所在，跪求指导！ 发自小木虫Android客户端 |
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