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关于电容器涂膜制样的方法
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关于电容器涂膜制样的方法
最近在做电容器,涂膜总是涂得不好,总是漏镍(集流体是镍),我用的是MnO2:乙炔黑:PVDF=7:2:1混合研磨,NMP为溶剂,研磨半小时,然后用钥匙涂膜,干燥后发现很多很多地方漏镍,测得的CV曲线会有杂峰。
求问:大家是怎么混合研磨复合物的?如果漏镍对最后的测试的容量有什么影响?如果有漏镍的地方是不是活性物质分得的电压低,导致最后的比容量特别低?求各位大神指教,不胜感激。
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