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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术交流 » 光刻胶过滤性以及失重探究
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zjb1990912

金虫 (初入文坛)

[交流] 光刻胶过滤性以及失重探究

本人现从事负性光刻胶的研发工作，最近客户提出了一个光于光刻胶的过滤性和TGA失重问题！
过滤性要求300g，采用PP0.45um过滤膜，在160s左右过滤完成，但是我们尽最大努力，现在也就是260s左右，也曾考虑是原物料和物料匹配问题，都采取了一定的更改，但是效果不明显！
TGA要求失重小于1.2%左右，目前基本上在1.8%左右！
请问各位有什么好得建议和解决办法，谢谢！
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1楼 2017-11-02 14:14:00
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Cathysmile

木虫 (小有名气)
★
zjb1990912(金币+1): 谢谢参与
纳米压印光刻胶用原材料可以在实验室合成吗  需要有化学背景吗
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8楼2017-12-24 21:41:05
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babyoflion

金虫 (著名写手)
★
zjb1990912(金币+1): 谢谢参与
调节粘度和表面张力
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3楼2017-11-02 21:10:51
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zjb1990912

金虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by babyoflion at 2017-11-02 21:10:51
调节粘度和表面张力

表面张力的调节具体可以有哪些操作？？
赞一下 回复此楼
6楼2017-11-06 09:32:14
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babyoflion

金虫 (著名写手)
引用回帖:
6楼: Originally posted by zjb1990912 at 2017-11-06 09:32:14
表面张力的调节具体可以有哪些操作？？...

换溶剂
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7楼2017-11-06 12:24:44
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nono20094楼
2017-11-02 21:32   回复  
zjb1990912(金币+1): 谢谢参与
。 发自小木虫Android客户端
yuzhuce2楼
2017-11-02 15:09   回复  
zjb1990912(金币+1): 谢谢参与
祝福 发自小木虫IOS客户端
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