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czcdxmc

木虫 (正式写手)

MEMS小学生

[求助] DRIE工艺后Si表面有Grass 已有1人参与

DRIE工艺刻蚀PR做mask的硅片后刻蚀表面有Grass,即在显微镜DarkField下观察有密集的亮点。不知道是工艺参数问题,还是工艺腔室洁净度问题,或者是wafer表面的问题。各位大神来指点一下。
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学海无涯,回头是岸。
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坏小孩和贵族

新虫 (小有名气)

请问楼主的问题解决了么 我的也是很模糊

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

2楼2017-11-29 17:53:31
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czcdxmc

木虫 (正式写手)

MEMS小学生

送红花一朵
引用回帖:
2楼: Originally posted by 坏小孩和贵族 at 2017-11-29 17:53:31
请问楼主的问题解决了么 我的也是很模糊

问题还没解决,现在怀疑是晶圆中有杂质,或者是晶圆表面有自然氧化层。

发自小木虫Android客户端
学海无涯,回头是岸。
3楼2017-11-30 20:59:58
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坏小孩和贵族

新虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by czcdxmc at 2017-11-30 20:59:58
问题还没解决,现在怀疑是晶圆中有杂质,或者是晶圆表面有自然氧化层。
...

我打算用氢氟酸洗一下,如果是氧化层应该可以洗掉

发自小木虫Android客户端
4楼2018-01-03 00:13:07
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wuli05_li

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

一个可能原因是硅表面没清洗干净;另一个可能原因是显影没显干净。。。
跳出三界外,不在五行中。
5楼2018-01-29 21:21:31
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