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grinm105

金虫 (正式写手)

[交流] 请教金属镀膜的基本方法。

本人想在钕铁硼磁体上镀膜,不是那种防腐用的膜,请问各位大侠,金属镀膜比如真空蒸镀需要注意什么呢?是不是对真空度要求很高了?磁控溅射能否简单介绍下?谢谢!
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grinm105

金虫 (正式写手)

引用回帖:
Originally posted by bkdzhl at 2009-2-19 10:51:
一般真空蒸发镀在10-3~10-5Pa真空度时进行
如果真空度低,工件表面将吸附残余一层气体,使到达工件的蒸汽原子不能直接与基材原子结合,膜-基结合力低,膜层组织疏松。

与基体是不是也可能反应呀?
4楼2009-02-19 11:04:09
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bkdzhl

铜虫 (小有名气)

★ ★
bio-polymer(金币+2,VIP+0):积极回复,谢谢 2-19 11:15
一般真空蒸发镀在10-3~10-5Pa真空度时进行
如果真空度低,工件表面将吸附残余一层气体,使到达工件的蒸汽原子不能直接与基材原子结合,膜-基结合力低,膜层组织疏松。
2楼2009-02-19 10:51:44
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grinm105

金虫 (正式写手)

您好,多谢呀。。我现在出来的样品是表面被烧损了。。是不是可能所镀金属膜可能与基地反应了?谢谢您!
3楼2009-02-19 10:57:52
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ufoer

荣誉版主 (著名写手)

PNNL- new life

★ ★ ★ ★ ★
bio-polymer(金币+5,VIP+0):积极回复,谢谢 2-19 11:16
你上面说的这两种方法都是气象物理沉积方法,都需要高真空。一般来说真空度越高越好,至少得大于10-3Pa以上。因为真空度不够的话,将会造成氧化现象的发生,这是镀金属膜的大忌。建议你去找一些物理气象沉积的书看看,那里有很详细的介绍。我最近也要上传一本英文的书《Principles of Vapor Deposition of Thin Films》,你如果有兴趣的话,可以关注一下
xxxxxxxxxxxxx
5楼2009-02-19 11:12:13
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