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lisa-sun木虫 (小有名气)
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求助APCVD的相关资料，包括不同设备规格书 ，操作手册，周边辅助设施等，以及一些原理和APCVD的方法制备TCO导电玻璃的资料。 谢谢大家！ |
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lisa-sun
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9楼2009-02-18 10:10:49
这金币是我的了。 3楼2009-02-17 16:29:47
lisa-sun
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4楼2009-02-17 16:38:00
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lisa-sun(金币+5,VIP+0):谢谢啦，但和我要的相差甚远啊~~ 2-17 19:11
lisa-sun(金币+5,VIP+0):谢谢啦，但和我要的相差甚远啊~~ 2-17 19:11
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恩 APCVD 常压化学气相沉积法(APCVD) 所谓常压化学气相沉积法（APCVD，Atmospheric pressure CVD），顾名思义，就是在气压接近常压下进行CVD反应的一种沉积方式，此法的沉积速度极快，约为600-1000奈米/分。APCVD的操作压力接近一大气压，气压分子间的碰撞频率很高，同质成核的 "气相反应" 容易发生，易产生微粒。在工业界的应用上，APCVD的使用大都集中在对微粒的忍受能力较大的制程上，如保护层（passivation）。常压化学气相沉积设备，在VLSI的制程中，常用所谓的连续式系统来完成APCVD的工作，这种连续的APCVD，主要是由一条晶圆输送带及传送反应气体的 "喷气器" 所组成。输送带上的晶圆经马达的传送，缓缓地送入APCVD的反应室内，输送带下方的加热器被用来加热晶圆，化学气相沉积所需的气体，经由喷气器的喷嘴送往正下方的晶圆，CVD的沉积层便覆盖在晶圆表面，而达到化学气相沉积的目的。 这看看http://www.wqkeji.com/%A3%C3%A3% ... l/%A3%C3%A3%B5.html 一种APCVD喷涂新配方 2008/7/9/08:24 来源：中华人民共和国知识产权局 申请号：200610118699.7 名称：一种APCVD喷涂新配方 公开(公告)号：CN101191199 公开(公告)日：2008.06.04 主分类号：C23C16/40(2006.01)I 申请(专利权)人：上海超日太阳能科技股份有限公司 地址：201406 上海市奉贤区光明经济园区牌楼村一组 发明(设计)人：倪开禄;顾连华 专利代理机构：上海世贸专利代理有限责任公司 代理人：叶克英 摘要 本发明涉及一种APCVD喷涂新配方，其特征在于：所述配方由钛酸四丁酯、乙酸正丁酯、异辛醇组成，其重量百分比为：钛酸四丁酯75％-85％，乙酸正丁酯10％-20％，异辛醇1％-8％。所述配方由钛酸四丁酯、乙酸正丁酯、异辛醇组成，其重量百分比为：钛酸四丁酯80％，乙酸正丁酯15％，异辛醇5％。本发明公开了一种APCVD喷涂新配方，使用这种涂料可以增加二氧化钛膜的厚度和增强二氧化钛膜的致密性，改善了膜层各个方向的视差，实用且美观，对太阳能的吸收效果好，能量转化效率高。 这看看http://www.cqvip.com/qk/90370X/2006F05/22222628.html |
6楼2009-02-17 16:57:01
