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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 催化 » 表征 » 还原前后表面铜硅比巨降！
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万花雨叶石

新虫 (著名写手)
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还原前后表面铜硅比巨降！
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XPS计算出铜硅催化剂还原前后表面铜硅比由0.8降到0.09，请问可以怎么解释？

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1楼2017-07-27 09:55:24
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万花雨叶石

新虫 (著名写手)
引用回帖:
15楼: Originally posted by 4419966jia at 2017-07-27 10:25:47
是不是还原温度高了，导致铜晶粒聚集

您好，团聚确实有，如果是晶粒团聚，那也还是在表面哇。

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19楼2017-07-27 12:09:52
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pandongzi2楼
2017-07-27 09:55   回复  
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拂晓之声3楼
2017-07-27 09:55   回复  
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XDD774楼
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太阳当空照85楼
2017-07-27 09:56   回复  
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萤火虫之谷6楼
2017-07-27 09:57   回复  
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qunying127楼
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skhonor1158楼
2017-07-27 09:59   回复  
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子小sxp9楼
2017-07-27 10:01   回复  
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书野孤寂10楼
2017-07-27 10:06   回复  
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marlyn11楼
2017-07-27 10:07   回复  
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dou07012楼
2017-07-27 10:08   回复  
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手机用户13楼
2017-07-27 10:13   回复  
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wangzihan21814楼
2017-07-27 10:17   回复  
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