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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 多孔硅颗粒制备
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zayudo

银虫 (初入文坛)

[求助] 多孔硅颗粒制备 已有2人参与

求大神指导，制备多孔硅颗粒时，用脉冲直流电4mA.cm2,脱膜250s。脉冲直流具体条件是什么啊
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1楼 2017-07-10 18:00:59
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51zhuce

金虫 (职业作家)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
你的才考文献能贴出来吗？华东师范 冯晓的论文你看了吗
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2楼2017-07-10 18:21:46
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zayudo

银虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 51zhuce at 2017-07-10 18:21:46
你的才考文献能贴出来吗？华东师范 冯晓的论文你看了吗

这是参考的文献，Biodegradable luminescent porous silicon nanoparticles for in vivo applications
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3楼2017-07-11 17:10:31
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dgrxddx

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

我在做类似的项目，文献的SUPPLEMENTARY INFORMATION给了更详细的实验参数。https://images.nature.com/full/n ... ref/nmat2398-s1.pdf
制备多孔硅颗粒，一般是先制备多孔硅层，然后通一个持续时间短但数值很大的脉冲电流使得多孔硅层跟衬底脱落。这个脉冲电流的大小独立于衬底掺杂浓度，只与腐蚀液HF的浓度相关。
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4楼2017-07-16 20:38:10
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