| 查看: 358 | 回复: 0 | ||
[求助]
硅片在sipos后发生局部IR大问题，请大神指导
|
|
硅片在rca清洗后，去做sipos，之后发现有局部集中大点，IR大问题，目前还没找到原因，请大家给一点思路建议。 发自小木虫Android客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
核磁分析软件MestReNova打开文件时报错
已经有0人回复
-
在职博后不能申请博后基金了，那么在职博后意义何在？
已经有2人回复
-
高分子科学论文润色/翻译怎么收费?
已经有263人回复
-
MRS Communications 期刊啥时候有正式页码
已经有1人回复
-
青岛大学化学化工学院分子测量学研究院2026年招收博士研究生
已经有0人回复
-
香港科技大学（广州）诚招电催化方向博士生（2026秋入学）
已经有0人回复
-
双一流高校南京林业大学材料学院招收2026年申请考核博士生
已经有0人回复
-
国家双一流建设高校——2026南京林业大学化学工程学院招收申请考核博士生1名
已经有0人回复
-
法国斯特拉斯堡大学招CSC攻读博士-超分子化学、高分子科学和有机化学合成背景
已经有0人回复
-
求助Cu2+1O的CIF文件(PDF: 05-0667)
已经有1人回复