| 查看: 388 | 回复: 0 | |||
[交流]
反应离子刻蚀
|
我最近在做反应离子刻蚀实验，发现100nm5硅片镀铜怎么都刻蚀不掉，但是表面又呈现黑色，工艺就是镀膜匀胶曝光显影刻蚀，60nm结构可以刻蚀出来，100nm怎么都刻蚀不出来，刻蚀参数是通的氩气120sccm，偏压310v，射频功率106w，刻蚀时间1小时15分钟，下面两张图片分别是刻蚀前后的。刻蚀机是国产的jsd300rie。  发自小木虫Android客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
售SCI文章，我:8O.5.5.1O.54,科目全,可十急
已经有20人回复
-
越来越担心硕士毕业后没有竞争力了
已经有14人回复
-
论文的挂名怎么评判贡献？基金申请中，排名第一的挂名文章
已经有3人回复
-
申博自荐 2篇一区TOP+1篇EI+2公开发明专利 2027博士申请
已经有3人回复
-
闲聊
已经有6人回复
-
申博求助
已经有4人回复