| 查看: 299 | 回复: 0 | |||
[交流]
反应离子刻蚀
|
我最近在做反应离子刻蚀实验，发现100nm5硅片镀铜怎么都刻蚀不掉，但是表面又呈现黑色，工艺就是镀膜匀胶曝光显影刻蚀，60nm结构可以刻蚀出来，100nm怎么都刻蚀不出来，刻蚀参数是通的氩气120sccm，偏压310v，射频功率106w，刻蚀时间1小时15分钟，下面两张图片分别是刻蚀前后的。刻蚀机是国产的jsd300rie。  发自小木虫Android客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
参与限项
已经有3人回复
-
假如你的研究生提出不合理要求
已经有7人回复
-
实验室接单子
已经有4人回复
-
全日制（定向）博士
已经有4人回复
-
对氯苯硼酸纯化
已经有3人回复
-
求助:我三月中下旬出站，青基依托单位怎么办？
已经有12人回复
-
不自信的我
已经有12人回复
-
所感
已经有4人回复
-
要不要辞职读博？
已经有7人回复
-
北核录用
已经有3人回复