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求助-氮吸附相关问题
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本人是做氧化硅的，审稿人问的一个氮吸附的问题实在是不知道怎么回答，请教各位大神！问题如下： Please provide the cross section of the nitrogen molecule used for evaluation and comment on the state of hydroxylation of the silica surface which is known to strongly influence the apparent cross section of nitrogen. Please provide an estimate of the data accuracy and only report significant digits. 提供氮气分子的横截面，这个是知道的，77K下 0.162 nm2，但是后一个问题是说硅表面的羟基会影响氮气分子的横截面积，让我分析一下表面硅羟基？还请各位大神多多指教！万分感谢啊！ |
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