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双通AAO纳米模板的制备问题
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制备AAO模板的大致过程是在高纯铝基板上采用电化学阳极氧化，便得到铝基型单通AAO纳米模板。那么据我了解制备双通AAO纳米模板有两种方法，一种是电化学剥离，即利用阳极鼓泡，将AAO膜与铝基底分开，这样的方法简单易行，但是缺点是背面的孔大小不是很均匀，且孔径显得比较小。第二种方法也很常用，即化学腐蚀法，使用饱和氯化铜溶液利用置换原理，将铝基底反应掉，但是问题来了，在这个过程，很容易使AAO模板污染，表面有些脏东西残留，而这一问题不是一直都存在，却很难每次都避免。请问大家做过AAO的同仁们，你们是否遇到过这样的问题，又是如何解决的呢？图片附在下面。 去铝制备双通AAO表面污染情况.jpg |
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 AAO模板制备及应用 |
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zyoypx(金币+1): 谢谢参与
zyoypx(金币+1): 谢谢参与
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9楼2017-06-05 15:47:57
2楼2017-06-05 12:16:30
3楼2017-06-05 12:29:20
4楼2017-06-05 12:35:23
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gorgan8楼
2017-06-05 15:43
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