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聚甲基倍半硅氧烷的分子结构是什么样的？求助 已有3人参与
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qiaovivi10
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POSS（Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane，多面体低聚倍半硅氧烷） 是一类纳米尺度笼状结构的低聚硅氧烷，于1946年由Scott D.W首次合成得到 POSS的结构简式为（RSiOl.5)n，n=6，8，10，12等，可以简写为T6，T8，T10，T12等。其中n=8的化合物研究最多，除非特别说明，一般所讲的POSS皆默认为n=8的POSS。 其报道的结构主要有无规结构、梯形结构、笼形结构、部分笼形结构和桥形结构。如图1·11所示，其中笼形结构是目前研究最多的种类，是典型的三维纳米结构的无机材料。 1982年，Voronkov等人发表了一篇综述，详细介绍了POSS的合成方法。2000年，Feher课题组相关人员在综述中讨论了近期POSS合成的进展。2001年，LI等也对单功能基团POSS、多功能基团POSS以及聚合物的合成进行了详细的归纳和总结。 SCHWAB J J, et al. Polyhedral oligomeric silsesquioxane (POSS)-based polymers[J]. Applied Organometallic Chemistry, 1998, 12: 707-713. FEHER F, et al. Silsesquioxanes and spherosilicates as precursors to hybrid inorganic/organic materials[J]. Polymeric Materials Science and Engineering, 2000, 82: 301-302. |
7楼2017-06-01 18:27:12