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JJ陈陈

新虫 (初入文坛)

[交流] 循环伏安法测析痒性能

用循环伏安法测析痒性能时,是扫速越大,析痒性能越好吗?我的测试体系是碳酸钠,催化剂为铜镍复合金属氧化物

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JJ陈陈

新虫 (初入文坛)

2楼2017-05-23 12:07:27
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耿洪超

新虫 (小有名气)

催化剂有基底么
3楼2017-05-23 20:46:06
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JJ陈陈

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
3楼: Originally posted by 耿洪超 at 2017-05-23 20:46:06
催化剂有基底么

基底是ITO

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4楼2017-05-24 11:25:50
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耿洪超

新虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
你怎么把铜镍负载上去啊    光照么
5楼2017-05-24 16:48:17
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JJ陈陈

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
5楼: Originally posted by 耿洪超 at 2017-05-24 16:48:17
你怎么把铜镍负载上去啊    光照么

电沉积

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6楼2017-05-24 19:31:53
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清风慕白

木虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
催化电流是随着扫速的增大而增大的,OER一般扫速都设定5 mV s-1,多看文献。希望能帮到你。
7楼2017-05-24 22:44:26
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