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【求助】 真空蒸镀时有关膜厚的测量
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刚开始做有机太阳电池,采用真空蒸镀的方式,用震荡电源进行控制,石英微天枰(用的是FA和0.1s档)进行实时监控,老师说对于有机层,频率变化10,膜厚增加1nm;对于金属层,频率变化20,膜厚增加1nm;是否是所有有机物和金属都是这样规定的呢? 如果金属之间密度相差较大,那也是按同样的频率与膜厚增长对应比例吗? 谢谢大家了!!! 请高人指点一下!!! |
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