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【求助】 真空蒸镀时有关膜厚的测量
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刚开始做有机太阳电池，采用真空蒸镀的方式，用震荡电源进行控制，石英微天枰（用的是FA和0.1s档）进行实时监控，老师说对于有机层，频率变化10，膜厚增加1nm；对于金属层，频率变化20，膜厚增加1nm；是否是所有有机物和金属都是这样规定的呢？ 如果金属之间密度相差较大，那也是按同样的频率与膜厚增长对应比例吗？ 谢谢大家了！！！ 请高人指点一下！！！ |
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