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我想问问大家，为什么通过漫反射看不到带隙，催化性能却很好？
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我通过紫外可见漫反射数据计算带隙，有一个样品看不出有明显的带隙，但是性能却很好，这是什么原因，大家知道吗？ 下面是n型半导体硅，掺杂大小不同。测紫外可见漫反射，然后计算带隙。可以看到一个有明显的带隙，一个没有带隙，但是没有带隙的这个催化性能却更好。请问怎么解释啊？怎样才能知道这个禁带的宽度？  Image 6.jpg |
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