| 查看: 1357 | 回复: 0 | ||
[求助]
金属辅助湿化学法蚀刻硅制备的纳米线，测试紫外可见漫反射图谱，300nm处出现怪峰
|
以前没有出现这样的情况，这次在300nm处出现了峰。样品是两步法制备的硅纳米线。样品在300nm处一开始峰值很小的（金属Ag我用硝酸除去了）。当我把样品重新浸入65% 硝酸中10min，出现了这个峰。后来我重新制备了，峰又出现了。真的好奇怪，有没有人知道是什么原因啊？这两个样品是一天制备的。我过几天重新制备，峰变得很小了。究竟是什么原因造成的呢？ 1.jpg  2.jpg  3.jpg |
回复此楼» 猜你喜欢
关于合成MIL-125的求助
已经有0人回复
-
双非本硕光催化方向想读博，请各位老师看看我！
已经有2人回复
-
专业论文润色/翻译怎么收费?
已经有264人回复
-
瑞典林雪平大学范立洲课题组现招聘博士后、岗位制博士生
已经有0人回复
-
中国科大仿生界面材料科学全国重点实验室戴懿涛研究员/江雷院士团队招聘科研助理
已经有0人回复
-
中国科大仿生界面材料科学全国重点实验室戴懿涛研究员/江雷院士团队招聘科研助理
已经有0人回复
-
寻求物理化学学报最新的投稿模板！
已经有4人回复
-
东南大学杰青/海优团队招聘催化方向博士后
已经有866人回复
-
投稿咨询
已经有7人回复
-
自科面上 散金币 祈福
已经有61人回复
-
铁钼催化剂成型
已经有2人回复
» 本主题相关商家推荐: (我也要在这里推广)
投票:
10