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金属辅助湿化学法蚀刻硅制备的纳米线，测试紫外可见漫反射图谱，300nm处出现怪峰
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以前没有出现这样的情况，这次在300nm处出现了峰。样品是两步法制备的硅纳米线。样品在300nm处一开始峰值很小的（金属Ag我用硝酸除去了）。当我把样品重新浸入65% 硝酸中10min，出现了这个峰。后来我重新制备了，峰又出现了。真的好奇怪，有没有人知道是什么原因啊？这两个样品是一天制备的。我过几天重新制备，峰变得很小了。究竟是什么原因造成的呢？ 1.jpg  2.jpg  3.jpg |
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