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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 【请教】求XPS的结构解析（有机硅）
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kqp1982

木虫 (著名写手)

[交流] 【请教】求XPS的结构解析（有机硅）

Si 2P峰的位置分别是102.19eV和103.56eV,由于我们的涂层厚度为500nm左右，所以103.56eV不应该是SiO2峰，不知道这两个峰分别代表什么峰？材料是聚硅氧烷（RSi(OH)3的聚合物）

[ Last edited by jackchen145 on 2009-1-2 at 19:38 ]
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1楼 2009-01-02 15:21:37
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kqp1982

木虫 (著名写手)
涂层后，就是说不应该探测到玻璃上的结果

那我这个物质本身不应该会形成SiO2

但是会形成网状的Si-O-Si键R-Si-（OSi）3---R
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3楼2009-01-02 19:03:09
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scorpio_tracy

银虫 (小有名气)
★ ★
kqy920(金币+2,VIP+0):谢谢应助！欢迎常来！
不知道你“由于我们的涂层厚度为500nm左右，所以103.56eV不应该是SiO2峰“这个结论是怎么得到的。。。我不搞涂层，所以不明白是否涂层厚度应该和组成有关，我只能从我的知识给出一个判断：）不对的地方请包涵。
通常，xps给出的是材料表面几个纳米的信息，从你的xps谱图上来看，103.6左右的峰应该就是SiO2来的，氧的电负性比碳强，这时候硅上的电子云密度减小，导致xps的binding energy上升。102左右的峰应该来自于硅氧烷，即C-O-Si键。
前提是你这个谱标定准确：）
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2楼2009-01-02 17:33:15
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