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花海若水

新虫 (小有名气)

[求助] 二氧化硅表面羟基相关问题

我用teos水解产生二氧化硅,未做其他处理,刚离心出来时很亲水,但是在50℃下放置一段时间后就变成疏水的了,在室温放置也会出现这种问题,请问这要怎么解释?
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高分子材料
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花海若水

新虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by daiyu1987 at 2017-03-20 18:01:29
疏水的表现是什么,放置一段时间絮凝了么?

不是,我是把它离心出来干燥放置的
高分子材料
5楼2017-03-20 19:20:44
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赵飞岩1995

金虫 (著名写手)

2楼2017-03-20 15:05:15
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daiyu1987

金虫 (正式写手)

疏水的表现是什么,放置一段时间絮凝了么?

发自小木虫IOS客户端
3楼2017-03-20 18:01:29
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花海若水

新虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 赵飞岩1995 at 2017-03-20 15:05:15
多大粒径

具体没测,大概在50-100nm之间
高分子材料
4楼2017-03-20 19:20:00
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