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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 无机/物化 » 物理化学 » 关于硅片表面及处理之后表面亲水的问题
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甫之

新虫 (初入文坛)

[求助] 关于硅片表面及处理之后表面亲水的问题 已有2人参与

发现抛光的硅片表面（自然形一层二氧化硅）不亲水，只有一个小水珠挂在上面，容易吹掉。用丙酮，乙醇，氯仿洗过，在用氨水和双氧水处理后发现亲水，表面有一层很厚的水膜。接着又用氢氟酸处理，发现现象和最初的一样又不亲水了，这为什么？按理说氢氟酸处理后表面有硅氢键亲水啊

@崇明先生 发自小木虫Android客户端
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1楼 2017-03-11 16:51:50
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zjlenny

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
甫之(冰点降温代发): 金币+2, 谢谢回帖，欢迎常来无机物化版块。 2017-03-18 21:34:35
其实可以这样理解，用双氧水后，表面形成一层很薄的氧化硅，氧化硅是亲生的，用HF后，氧化硅被去除了，所以不亲生了
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2楼2017-03-11 22:43:51
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甫之

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by zjlenny at 2017-03-11 22:43:51
其实可以这样理解，用双氧水后，表面形成一层很薄的氧化硅，氧化硅是亲生的，用HF后，氧化硅被去除了，所以不亲生了

那为什么没有处理过的硅片怎么不亲水啊，它表面应该有一层氧化硅啊

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3楼2017-03-12 09:08:55
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冰点降温

版主 (文坛精英)

优秀版主优秀版主优秀版主优秀版主优秀版主优秀版主优秀版主优秀版主优秀版主

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
引用回帖:
3楼: Originally posted by 甫之 at 2017-03-12 09:08:55
那为什么没有处理过的硅片怎么不亲水啊，它表面应该有一层氧化硅啊
...

你可将未处理的硅片使用柠檬酸清洗，之后再看看是否亲水。

不知你是否看过硅片的生产过程，整个硅锭经过线切割之后是需要清洗的，在线切割的过程中会加入很多辅助线切割的液体，投入太阳能电池片或其它半导体芯片生产之前一般有一个柠檬酸清洗的过程，之后会在硅片表面形成水膜，用无尘热风吹干。
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生于忧患，死于安乐。
4楼2017-03-13 10:04:27
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甫之

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
4楼: Originally posted by 冰点降温 at 2017-03-13 10:04:27
你可将未处理的硅片使用柠檬酸清洗，之后再看看是否亲水。

不知你是否看过硅片的生产过程，整个硅锭经过线切割之后是需要清洗的，在线切割的过程中会加入很多辅助线切割的液体，投入太阳能电池片或其它半导体芯 ...

好，我试试看

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5楼2017-03-13 12:06:06
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zqxfcg

金虫 (正式写手)
请问你处理时所用HF酸的浓度及处理时间？我打算刻蚀300nm厚的SiO2层
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静水流深
6楼2017-04-02 22:04:57
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52hz的鱼

新虫 (初入文坛)
请问作者解决这个问题了吗？我也很想知道答案
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7楼2019-02-10 22:32:01
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